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    常德電鍍?cè)O(shè)備的基本工藝要求是什么?

    文章出處:新聞中心 責(zé)任編輯:廣東見(jiàn)正機(jī)電電鍍?cè)O(shè)備科技有限公司 發(fā)表時(shí)間:2020-11-26
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        電鍍?cè)O(shè)備的基本工藝要求是什么?電鍍時(shí)的表面狀況和加工要求,選擇其中適當(dāng)?shù)膸讉€(gè)步驟,對(duì)零件表面進(jìn)行必要的修整加工,使零件具有平整光潔的表面,這是能否獲得優(yōu)質(zhì)鍍層的重要環(huán)節(jié)。鍍前處理工藝中,所用的主要設(shè)備有磨、拋光機(jī)、刷光機(jī)、噴砂機(jī)、滾光機(jī)和各類固定槽。電鍍處理是整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中的主要工藝。
    常德電鍍?cè)O(shè)備的基本工藝要求是什么?的圖片?
        根據(jù)零件的要求,有針對(duì)性選擇某一種或幾種單金屬或合金電鍍工藝對(duì)零件進(jìn)行電鍍或浸鍍等加工,以達(dá)到防蝕、耐磨和美觀的目的。電鍍處理過(guò)程中所用的設(shè)備主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。

        鍍后處理是對(duì)零件進(jìn)行拋光、出光、鈍化、著色、干燥、封閉、去氫等工作,根據(jù)需要選用其中一種或數(shù)種工序使零件符合質(zhì)量要求。鍍后處理常用設(shè)備主要有磨、拋光機(jī)、各類固定槽等。

        1、鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應(yīng)有良好的結(jié)合力。

        2、鍍層應(yīng)結(jié)晶細(xì)致、平整、厚度均勻。

        3、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。

        4、鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo),如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。

        5、電鍍時(shí)間及電鍍過(guò)程的溫度,決定鍍層厚度的大小。

        6、環(huán)境溫度為-10℃~60℃。

        7、輸入電壓為220V±22V或380V±38V。

        8、水處理設(shè)備大工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。

        9、相對(duì)濕度(RH)應(yīng)不大于95%。

        10、原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。


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